生物能量学：开放获取

抽象的

氮离子注入对玻璃基氧化铜薄膜物理性能的影响

哈迈德·沃索基亚

氮掺杂是改变
金属氧化物结构特性以改变其光学和电学特性的方法之一。在这种情况下，氮掺杂氧化铜是一个重要的研究课题，因为它有可能克服氧化铜高电阻的缺点。本文研究了氮离子注入对直流磁控溅射沉积在玻璃基板上的氧化铜薄膜的影响。为了研究氮离子注入对氧化铜薄膜的影响，利用X射线衍射法获得了样品的晶体结构。利用原子力显微镜和扫描电子显微镜研究表面形貌，利用紫外可见分光光度计研究光学特性。XRD 图案显示注入样品中形成了具有正交结构的 Cu2O:N。SEM图像显示氮离子注入后表面形貌发生了一些重大变化，表面产生了一些相互连通的孔径。 AFM图像显示，由于注入离子的弹道效应，注入后样品的粗糙度减小并发生了变化。光学性能研究表明，氮离子注入促进了载流子的离域，导致光学带隙减小。氮离子注入的另一个结果是样品的电阻率最小化， IV特性用keithley-2361系统进行。结果为N掺杂氧化铜的合成提供了一个辅助实验实例，并将促进Cu2O：N器件（例如光伏材料系统）的研究和应用。