高等化学工程学报

抽象的

入射飞秒激光功率对PLD技术沉积金薄膜的影响

Atwee T、Khedr MA、Fathy N 和 Badr Y

采用脉冲激光沉积技术 (PLD) 制备了具有不同入射飞秒激光功率的金薄膜，以评估入射飞秒激光脉冲对沉积薄膜的形成和均匀性的影响。本研究使用的激光脉冲波长为 800 nm，脉冲持续时间为 20 fs，重复率为 1 kHz。薄膜数据是在入射飞秒激光功率为 400、500、600 和 750 mW、压力为 0.3 m Torr 和目标基板距离为 6.5 cm 时获得的。沉积期间使用的玻璃基板温度保持在 200°C。沉积的金薄膜通过原子力显微镜 (AFM)、扫描电子显微镜 (SEM) 和能量色散 X 射线光谱 (EDX) 进行表征。实验数据显示形成了良好的金膜，颗粒形状和尺寸不断发展，并且随着入射飞秒激光脉冲平均值的增加而增大。结果还表明，在400 mW飞秒激光功率下，实际密度增加到60个粒子μm ^{2 (μm 2}中的粒子数)，并在激光功率500和600 mW时固定，而在激光功率750 mW时降低。