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抽象的

通过显色设计方法进行田口和二次规划:从更好到最佳的估计过程(盐酸替扎尼定)散装/药品

维卡什·库马尔 (Vikash Kumar)、卡迈勒·杜阿 (Kamal Dua)、苏西拉·拉蒂 (Sushila Rathee) 和 Permender Rathee

使用设计阵列(Taguchi)和二次设计方法(RSM)对散装和药物(盐酸替扎尼定)进行显色分光光度估计,开发了一种具有可重复最佳方法的最佳定量响应。最初(Taguchi),采用正交阵列设计来寻找显著变量以及最佳(更好)水平。通过响应曲面(中心复合;二次)方法,用于确定最佳到优化的“从更好到最佳”,并研究变量值(独立显著;X1=PDAB=显色剂;FeCl3=X2=铁离子,最佳水平,药物常数=X3)响应(依赖 Y1=吸光度)模型在正和负(+1/-1 最佳空间)水平上。此外,设计了独立因子水平“从更好到最佳”曲面模型(3D),其多项式(二阶)方程预测了最佳水平,这进一步可以被视为最佳显色估计方法。实验变量及其水平的模型分析表明,在优化的显著独立最佳(最​​细)水平变量下具有良好的Beer(5-50 μg/ml)相关性,并且还使用药品指南(ICH;国际协调会议)进行了验证,以供人类使用。

免责声明: 此摘要通过人工智能工具翻译,尚未经过审核或验证